홈으로| 과목명 | 범위 | 비고 |
| 반도체공정 | 실리콘 산화막의 용도 건식식각과 습식식각 박막증착 기술의 종류 단결정 반도체의 필요성 | |
| 나노반도체세미나1 | 별도 교재 없음 시험범위 : DRAM, Flash memory, Next generation memory technology | |
| 나노반도체세미나2 | Lithography Diffusion | |
| 나노전자소자1 | 교재: 별도 교재 없음. - mobility, FD SOI MOSFET, ReRAM, p-STT-MRAM
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| 나노전자소자2 | -CMOS Scaling -Flash Memory -DRAM
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| 기체방전공학 | 리버만 교재 전체 | |
| 플라즈마공정 | 리버만 교재 전체 | |
| 플라즈마공정특론 | 리버만 교재 전체 |
※시험범위는 전달받는대로 업데이트하여 안내하겠습니다.